Miscellaneous special-purpose machinery (№2836900)


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Publication date


03-10-2017

Description


  1. Section I
    1. Name and addresses
      Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
      Hansastr. 27c
      München
      80686
      Germany
      Telephone: +49 891205-3225
      E-mail: [email protected]
    2. Type of the contracting authority:
      Other type: Forschungsgesellschaft e. V.
    3. Main activity:
      Other activity: Forschung und Entwicklung
  2. Section II
    1. Scope of the procurement:
      1. Title:

        Laserglühsystem (Laser Annealing System).


        Reference number: E_079_230377 humt
      2. Main CPV code:
        42990000
      3. Type of contract:
        Supplies
      4. Short description:

        Laserglühsystem zur Bildung Ohm"scher Kontakte durch die Metallsinterung auf der Rückseite (C-Seite)der SiC Wafer und für Dotiermittelaktivierung von implantierten Ionen in der Rückseite; Glühen nur auf der Rückseite, keine signifikante Temperaturerhöhung auf der Vorderseite, insbesondere für gedünnte Wafer miteiner Dicke im Bereich von unter 100 μm; Reinraumkompatibel (Reinraumklasse 100); Manuelles Handling von 4"" und 6"" Wafern (optional 8""); UV-Laser (355 nm) mit einer Ausgangsleistung im Bereich von 7-10 W; Pulsweite <60 ns; Galvano Scanner; Computergesteuert: Überwachung von Laserleistung, Strahlprofil, energy at wafer, pulse shape; Prozessatmosphäre N2 oder Ar; kleine Grundfläche, CE Zertifizierung; Vor-Ort-Training.


      5. Information about lots:
        This contract is divided into lots: no
      6. Total value of the procurement:
        Value excluding VAT: 0.01 EUR
    2. Description
      1. Title:
      2. Additional CPV code(s):

      3. Place of performance:
        Main site or place of performance:

        91058 Erlangen.


      4. Description of the procurement:

        Laserglühsystem zur Bildung Ohm"scher Kontakte durch die Metallsinterung auf der Rückseite (C-Seite)der SiC Wafer und für Dotiermittelaktivierung von implantierten Ionen in der Rückseite; Glühen nur auf der Rückseite, keine signifikante Temperaturerhöhung auf der Vorderseite, insbesondere für gedünnte Wafer miteiner Dicke im Bereich von unter 100 μm; Reinraumkompatibel (Reinraumklasse 100); Manuelles Handling von 4"" und 6"" Wafern (optional 8""); UV-Laser (355 nm) mit einer Ausgangsleistung im Bereich von 7-10 W; Pulsweite <60 ns; Galvano Scanner; Computergesteuert: Überwachung von Laserleistung, Strahlprofil, energy at wafer, pulse shape; Prozessatmosphäre N2 oder Ar; kleine Grundfläche, CE Zertifizierung; Vor-Ort-Training.


      5. Award criteria:
        Quality criterion - Name: Technische Leistung / Weighting: 45
        Quality criterion - Name: Support / Weighting: 10
        Quality criterion - Name: Auslieferung / Weighting: 10
        Price - Weighting: 35
      6. Information about options:
        Options: no
      7. Information about European Union funds:
        The procurement is related to a project and/or programme financed by European Union funds: no
      8. Additional information:
  3. Section IV
    1. Description:
      1. Type of procedure:
        Competitive procedure with negotiation
      2. Information about a framework agreement or a dynamic purchasing system:
      3. Information about electronic auction:
      4. Information about the Government Procurement Agreement (GPA):
        The procurement is covered by the Government Procurement Agreement: yes
    2. Administrative information:
      1. Previous publication concerning this procedure:
        Notice number in the OJ S: 2017/S 058-107411
      2. Information about termination of dynamic purchasing system:
      3. Information about termination of call for competition in the form of a prior information notice:
  4. Section V
    1. Award of contract
      1. Date of conclusion of the contract: 2017-08-21
      2. Information about tenders:
        Number of tenders received: 1
        The contract has been awarded to a group of economic operators: no
      3. Name and address of the contractor:
        Mitsui Bussan Electronics Ltd.
        Shiba Park Building, A-10 F, 4-1, Shibakoen 2-chome, Minato-ku
        Tokyo
        105-001
        Japan
        The contractor is an SME: no
      4. Information on value of the contract/lot (excluding VAT):

        Total value of the contract/lot: 0.01 EUR
      5. Information about subcontracting:

  5. Section VI
    1. Additional information
    2. Procedures for review
      1. Review body
        Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
        Villemomblerstraße 76
        Bonn
        53123
        Germany
      2. Body responsible for mediation procedures
        Vergabeprüfstelle des BMBF Referat Z 23
        Heinemannstraße 2
        Bonn
        53175
        Germany
      3. Service from which information about the review procedure may be obtained

        Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI 4.1 genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I 1 genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des §107 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden sollen, werden vor dem Zuschlag gem. §101a GWB informiert.


        Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. über Vergabeportal eVergabe
        Hansastraße 27c
        München
        80686
        Germany
        E-mail: [email protected]
    3. Date of dispatch of this notice
      2017-09-28